EPMA-8050G

日本岛津（SHIMADZU）

二次电子像分辨率：≤3nm(30kV)，20nm(10nA@10kV),50nm(100nA@10kV)，100nm(1μA@10kV)

背散射电子像分辨率：≤20nm（拓扑像、成分像）

电子枪：肖特基场发射电子枪

加速电压：0.5～30kV;步进:100V，5kV以下10V步进

束流范围：3μA

束流稳定度：≤±0.3%/h (10kV；5×10-8A)

图像放大倍数：×40～×400000，连续可调

具有大焦深模式和超大焦深模式

分析元素：5B～92U

可实现高分辨形貌观察和微区元素定性及精准定量分析，利用多道WDS及多块分光晶体实现波长分辨率高的精准定量功能，能够应用于材料、化工、环境等学科领域，在元素定量分析方面具有先进性。

2023年