激光直写无掩膜光刻机

仪器位置:清华大学逸夫技术科学楼B431室

管理人员:孙老师

联系方式:010-62772554

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仪器位置 清华大学逸夫技术科学楼B431室 管理人员 孙老师
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型号

英国 Microwriter公司,ML3

技术指标

激光光源:385nm,功率≤1W;

直写分辨率与加工速度:

25mm2/min @0.6μm,

50mm2/min @1μm,

100mm2/min @2 μm,

180mm2/min @5μm;

样品尺寸:≤230*230*15mm;

加工区域:≤150*150*10mm;

套刻精度:0.5 μm;

灰度直写阶数:255级,3D图案直写功能

主要功能

激光束直接实现对光刻胶的曝光成型,不需要掩膜板。更灵活方式实现微纳结构或器件的加工及成型。

购置时间

2021年

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