韫茂公司GM100

样品最大容量：100g，适配3D基体及多片平片

样品反应温度：室温-300℃。

氧化源及非氧化源双路独立进气

最大包括2组反应气体8组液态或固态反应前驱体

前驱体加热温度：室温-200℃

包覆均匀性：＜±3%

成膜速率：-2Å/cycle

主要用于克级甚至千克级别的粉末表面均匀包覆沉积，可实现平面或三维结构复杂表面的无死角均匀致密包覆沉积。

2023年